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El anillo CMP de PEEK está diseñado para un rendimiento óptimo en los procesos de pulido químico-mecánico (CMP), ofreciendo una durabilidad superior y resistencia química. Fabricados con poliéter éter cetona (PEEK) de alto rendimiento, estos anillos sobresalen en entornos de alta temperatura y presentan una excelente resistencia al desgaste, lo que los hace ideales para aplicaciones exigentes en la industria de semiconductores. Con un bajo coeficiente de fricción y propiedades mecánicas excepcionales, los anillos CMP de PEEK garantizan precisión, estabilidad y eficiencia, contribuyendo a una mayor productividad y prolongando la vida útil de los componentes en sus sistemas CMP.
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