El detector Sion™ RF te brinda un control más preciso y mayores rendimientos en los procesos de deposición de vapor químico (CVD) y grabado al determinar de manera confiable y precisa el punto final de limpieza de la cámara. Un punto final más preciso significa niveles más bajos de partículas en la oblea y más tiempo entre los ciclos de mantenimiento preventivo.
Ofreciendo una serie de ventajas sobre los controladores basados en espectrómetros de emisión óptica (OES), Sion trabaja con el sistema de integración y análisis FabGuard® para reducir el tiempo y los materiales desperdiciados que resultan de la limpieza de la cámara por grabado insuficiente o excesivo.
DETECTOR RF NO INVASIVO Y CON SUJECIÓN RÁPIDA OFRECE DETECCIÓN DE ARCOS A ALTA VELOCIDAD EN iPVD, PECVD Y GRABADO
Reducción de Pérdidas de Wafers y M...
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